Het Horizon Europe project PATTERN zal 's werelds eerste Process and Assembly Design Kits (PDK & ADK) voor microgolffotonica bij ultrahoge frequenties (100+ GHz) ontwikkelen, evenals nieuwe methoden of heterogene integratie van III-V versterkingsmaterialen (bijv. InP) en BiCMOS drivers met elektro-optische en niet-lineaire platforms zoals lithiumniobaat op isolator (LNOI). Er wordt ook gedacht aan nieuwe en geavanceerde PIC-bouwstenen, zoals akoesto-optische modulatoren (AOM's) en magneto-optische isolatoren.