Das Horizon Europe Projekt PATTERN wird die weltweit ersten Prozess- und Montage-Design-Kits (PDK & ADK) für die Mikrowellen-Photonik bei ultrahohen Frequenzen (100+ GHz) sowie neue Methoden oder die heterogene Integration von III-V-Verstärkungsmaterialien (z.B. InP) und BiCMOS-Treibern mit elektro-optischen und nichtlinearen Plattformen wie Lithiumniobat auf Isolator (LNOI) entwickeln. Darüber hinaus sind neue und fortschrittliche PIC-Bausteine wie akusto-optische Modulatoren (AOMs) und magneto-optische Isolatoren geplant.